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半導體

發(fā)表時間:2023-06-01      點擊次數(shù):873

  等離子清洗設備可廣泛應用于半導體制造過程中。半導體制造涉及多個步驟,其中之一是可以清潔半導體設備表面,去除沉積物、有機物、灰塵等污染物,確保設備的質量和性能。等離子清洗設備可以利用等離子體產生的活性離子和化學反應,可以在非常小的尺度上進行清洗。

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